국내 연구진이 가시광선은 물론 자외선 영역까지 빛 제어가 가능한 광학 소자 프린팅 공정을 개발했습니다.
포스텍 노준석 교수와 고려대 이헌 교수 공동연구팀은 수십 나노미터 해상도의 메타표면을 고굴절 재료를 이용해 도장 찍듯이 간단히 프린팅하는 가공 기술을 개발했다고 밝혔습니다.
연구팀은 개발한 프린팅 공정을 구현된 메타표면이 자외선에서는 72.3%, 심자외선에서는 48.6%의 높은 빛 제어 효율을 달성해 고성능 메타표면의 실용적 생산 가능성을 확인했다고 설명했습니다.
YTN 사이언스 양훼영 (hwe@ytn.co.kr)
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