양자점 손상 없이 가공하는 반도체 공정 개발

국내 연구진이 아주 작은 반도체인 양자점과 나노결정을 손상 없이 정밀하게 가공할 수 있는 기술을 개발했습니다.

고려대 신소재공학부 오승주 교수 연구팀은 양자점의 성질을 안정적으로 지켜주는 기능성 포토레지스트를 설계해 전자·광전자 소자의 소형화와 고성능화를 위한 반도체 제작 공정을 개발했다고 밝혔습니다.

연구팀이 설계한 포토레지스트는 빛에 반응하는 화합물과 안정화제, 양자점 표면을 보호하는 리간드를 함께 사용해, 양자점이 빛을 잘 내고 전기적 특성을 유지하면서도 기존 반도체 제작 과정인 노광·현상 공정에서 본래 성질을 그대로 보존할 수 있도록 했습니다.

연구팀은 이를 통해 픽셀 크기를 머리카락 굵기보다 훨씬 작은 6㎛(마이크로미터) 이하로 줄이고, 인치당 4,200개의 픽셀을 구현하는 초고해상도를 달성했다고 설명했습니다.




YTN 사이언스 권석화 (stoneflower@ytn.co.kr)