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차세대 반도체 '흑린' 두께 조절 기술 개발

차세대 반도체 소재로 주목받는 '흑린'의 두께를 자유롭게 조절할 수 있는 기술이 개발됐습니다.

한국 표준과학 연구원 권혁상·김정원 박사팀은 포스텍 류순민 교수와 공동으로 흑린의 단점을 역이용해 흑린 박막 두께를 원하는 대로 깎을 수 있는 기술을 개발했다고 밝혔습니다.

흑린은 그래핀처럼 한 층으로 된 2차원 물질인데, 그래핀에는 없는 밴드갭이 있어 전류를 쉽게 통제할 수 있지만, 산소와 빛에 빠르게 반응해 산화된다는 치명적인 단점이 있습니다.

연구팀은 밀폐공간에서 습도를 조절해 자연 산화 반응을 억제한 뒤, 자외선을 쪼여 자연 반응보다 100배 빠른 속도로 흑린 표면을 원하는 두께로 깎는 데 성공했습니다.

이번 연구결과는 '미국화학회'에서 발행하는 학술지 'ACS Nano(에이씨에스 나노)'에 실렸습니다.

양훼영 [hwe@ytn.co.kr]


YTN 사이언스 양훼영
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